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北京歐倍爾科學儀器有限公司

德國進口等離子表面處理設備中國總代理

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產品名稱瑞士高真空涂層鍍膜系統

瑞士Safematic高真空涂層鍍膜系統是一個緊湊,全自動的濺射鍍膜機,使用非常簡單。由于獨特的插入式設計,該設備可通過簡單地改變工藝頭就可輕松配置為濺射或汽化...
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瑞士Safematic高真空涂層鍍膜系統


Safematic GmbH在瑞士的萊茵河谷制造技術領先的碳和濺射鍍膜機,該地區以真空和鍍膜技術的專業知識而聞名。Safematic研發團隊的關鍵成員在EM和薄膜涂層方面擁有多年經驗。安全專家基于這些專業知識和知識,在每個涂層頭中設計了關鍵組件,從而優化了儀器性能,同時最大程度地減少了停機時間并提高了維修便利性。


Safematic CCU-010 涂層設備

CCU-010是一個緊湊,全自動的濺射鍍膜機或碳鍍膜機,使用非常簡單。由于獨特的插入式設計,該設備可通過簡單地改變工藝頭就可輕松配置為濺射或汽化。在涂覆之前或之后,可以施加等離子體處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。

CCU-010具有靜態樣品臺,包括高度調節和傾斜度。它可以配備一個可選的變速旋轉平臺或一個旋轉球形平臺,每個平臺都可以容納不同類型的樣品和。對于所有樣品臺,膜厚監測均作為標準配置。

Safematic CCU-010 涂層設備


高性能濺射,碳涂層和等離子處理

專利碳盤管–多達50個碳涂層,無需用戶干預

獨特的即插即用濺射和碳涂層模塊

一流的真空性能和快速的抽空時間

緊湊,可靠且易于維護

雙位置膜厚監測儀,可容納不同尺寸的樣品

主動冷卻的噴頭可確保涂層質量并延長運行時間


CCU-010涂層設備有兩種型號。CCU-010LV精細真空基座SEMEDX的常規高質量濺射和碳鍍膜而設計,而CCU-010HV高真空系統涵蓋了最高級的SEM,TEM和薄膜應用。模塊化的設計使以后可以輕松地將其從低真空單元轉換為高真空單元。與材料,表面和輪廓有關的徹底設計可大大縮短加工時間。兩個附加的標準真空法蘭允許連接第三方設備。


濺射模塊  SP-010 & SP-011

兩個濺射模塊均插入CCU-010 LVCCU-010 HV基本單元,即可使用。每個噴頭模塊均包含用于高質量濺射鍍膜的所有關鍵組件,包括磁控管,靶材,百葉窗,過程壓力調節器和電力電子系統。此外,創新的接口可在幾秒鐘內將電源,氣體供應和信號傳輸連接到CCU-010基本單元(推入配合)。

SP-010SP-011濺射模塊具有有效的主動冷卻功能,連續噴涂時間長達50分鐘-非常適合需要較厚膜的應用。 多種濺射材料可用于SEM,FIB和各種薄膜應用。


濺射模塊


SP-010濺射頭的磁控管旨在優化目標用途。這使其成為用于電子顯微鏡中細晶粒貴金屬膜的理想工具。對于最小的晶粒尺寸涂層,需要渦輪泵送的CCU-010 HV本單元。


SP-011濺射裝置的磁控管設計用于大功率濺射和多種涂料。推薦該頭用于要求比標EM應用更高的涂覆速率和更厚的膜的薄膜應用。SP-011CCU-010HV結合使用可滿足諸如DLC,ITO或鐵磁濺射材料涂層等具有挑戰性的應用。


CT-010 碳纖維蒸發模塊

這個緊湊的插入式碳蒸發模塊為碳涂層樹立了新標準。該頭插入CCU-010 LVCCU-010 HV基本單元,即可立即使用。應用包括SEM,TEM和任何其他需要高質量碳膜的過程。CT-010使用具有專利,獨特且技術領先的碳纖維繞線系統。這樣就可以進行多達50個涂層,而無需更換碳源。一段碳纖維蒸發后,新的一段會自動前進,用過的纖維會掉落到方便的集水盤中。除了易于使用之外,自動繞線系統還允許在一個處理周期內可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。容易選擇的涂層模式可以執行安全的涂層,從對溫度敏感的樣品上的薄膜進行溫和的蒸發到在FIB應用中的厚層的高功率短時間碳涂層。智能功率控制結合脈沖蒸發,自動百葉窗后面的脫氣和薄膜厚度監控功能,可提供準確的層厚度,并避免了任何可能引起表面不均勻的火花。


碳纖維蒸發模塊


可選配的GD-010輝光放電系統可以快速安裝,以通過空氣,氬氣或其他專用氣體等離子體進行表面處理。例如,可以使碳膜親水。由于可以按順序進行碳涂層和輝光放電處理,因此無需“破壞”真空條件和更換工藝頭,因此極大地簡化了此過程。安裝CT-010中的本機與所有樣品臺兼容。


HEAD真空儲物箱 HS-010

HS-010真空儲物箱可讓您為CCU-010緊湊型涂層裝置保留第二個涂層頭,一個額外的行星或旋轉工作臺,并且始終可以在真空下清潔所有濺射靶材和碳絲。使用CCU-010可用的抽氣統,可連接至基本單元的集成抽氣管線將儲物箱向下抽至真空。另外,也可以輕松地連接一臺外部真空泵。 舒適的手動鎖定和排氣閥允許對儲物箱進行獨立的泵和排氣控制。附加的標準真空室有助于將碳涂層與金屬沉積完全分離,從而有效避免交叉污染。


刻蝕裝置 ET-010

對于樣品預處理或后處理以及涂層工藝,蝕刻裝置可將等離子體施加到基材上。使用該附件,可以選擇氬氣,額外的蝕刻氣體或環境空氣作為工藝氣體。這樣可以在涂覆之前清潔樣品,并增加薄膜的附著力。

另外,有可能在涂覆之后通過等離子體處理來改變涂覆樣品的表面性能。利用空氣等離子體,可以將薄碳層從疏水性轉變為親水性??烧{的過程壓力范圍為2E-1mbar1mbar,等離子電流為1050mA。


COATING-L數據軟件

可以使用基于PCCoating-LAB軟件查看包括圖形信息在內的過程數據。數據包括壓力,電流,電壓,涂層速率,涂層厚度和涂層速率作為實時曲線。便捷的軟件升級和參數設置完善了此智能工具。


樣品臺

CCU-010提供了一個直徑為80mm的樣品臺,該樣品臺插入了高度可調且可傾斜的樣品臺支架上??梢允褂脤S玫臉悠放_(選件)輕松替換此靜態標準臺。SS-010載物臺帶有兩個26x 76mm(分別為25 x 75mm)顯微鏡載玻片或一個52 x 76mm(分別為50 x 75mm)載玻片。由于采用了雙位膜厚監測儀,因此兩種傳感器均可使用石英傳感器。旋轉工作臺RS-010改善了平坦表面上的厚度均勻性,而行星驅動工作臺PS-010與樣品傾斜相結合,可以均勻地涂覆在裂隙狀,波紋狀,波紋狀或非常球形的樣品上。


樣品臺


【本文標簽】:高真空涂層鍍膜系統
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